その他（熱処理炉、外部装置など）

塗布熱分解法による化合物触媒層の形成に用います。

各種試料の熱処理に用います。管状炉２点、マッフル炉１点

単結晶基板などの高温熱処理に用います。

電気化学反応下、反応前後における触媒の局所構造・化学状態・結晶構造評価にSPring-8やNanoTerasuなどの放射光施設でXAFS,