分析分子線エピタキシー装置　“Jr.”　(D6)

小型のMBE装置です。清浄化のためのスパッタリング銃、電子ビーム蒸着源(x2)、RHEED, FTIR, アークプラズマ蒸発源が備え付けられています。

  • FT-IR (Bruker Optics Vertex 70)
  • RHEED-gun (Vieetech VE052)
  • RHEED Image analysis system (K-space KSA400)
  • Q-mass x2 (Spectra MONITORR; SRS RGA100)
  • LEED-AES (OCI BDL-600IR)
  • K-cell x3 (EPI)
  • Multi(x3) E-gun (Vieetech)
  • Sputter-gun (ULVAC-PHI USG3)
  • Ion-source (SPECS IQE 12/38)

装置模式図
動画

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